「国際メモリワークショップ（IMW）」が始まるまで：福田昭のストレージ通信（317） 国際メモリワークショップ（IMW）の50年（1）（1/2 ページ）

半導体メモリ技術を専門とする国際学会「国際メモリワークショップ（IMW：International Memory Workshop）」が2026年5月にベルギー・ルーベンで開催された。ことし50周年を迎える学会である。本シリーズでは、imecのディレクターであるJan Van Houdt氏による、50周年記念講演の内容をお届けする。

[福田昭，EE Times Japan]

2026年に50周年を迎えた国際メモリワークショップ（IMW）

　半導体メモリ技術を専門とする国際学会「国際メモリワークショップ（IMW：International Memory Workshop）」が2026年5月10日〜13日にベルギーのルーベンで開催された。IMWの前身である「不揮発性メモリワークショップ（NVSMW：Non-Volatile Semiconductor Memory Workshop）」が初めて開催された1976年8月から数えると、50周年に相当する。

　そこで2026年のIMWでは、50周年を記念した招待講演「Special Talk: 50 yr History of IMW」が実施された。講演者はベルギーの研究開発機関imecでディレクターをつとめるJan Van Houdt氏である。同氏は1987年にKU Leuvenを卒業し、1988年にimecに入る（imecの設立は1984年）。不揮発性メモリの研究開発に携わり、1999年にはメモリ研究グループの主任（リーダー）、2011年にはフラッシュメモリ開発の部長（ディレクター）、2019年には強誘電体のプログラムディレクターを歴任してきた。2022年にはimecのフェロー（Fellow）に選ばれている（参考：imecのFellow紹介ページ）。

2026年の「国際メモリワークショップ（IMW：International Memory Workshop）」会場風景。ベルギーのルーベンにある大学ホール（University Hall）。筆者が現地で撮影したもの［クリックで拡大］

2026年の「国際メモリワークショップ（IMW：International Memory Workshop）」で事前に公表されたプログラムの一部。講演番号「2.1」（緑色の線で囲んだ部分）がIMWの50周年記念講演

　講演は半導体メモリの研究開発を国際学会という側面から知る上で、とても参考になる内容だった。そこでJan Van Houdt氏の講演概要を、本コラムではシリーズ（連載）でお届けする。

1965年に開催された第1回の「SISC」がIMWのルーツ

　「国際メモリワークショップ（IMW：International Memory Workshop）」の前身が「不揮発性メモリワークショップ（NVSMW：Non-Volatile Semiconductor Memory Workshop）」であることは、既にご説明した。それでは「不揮発性メモリワークショップ（NVSMW）」が1976年に始まった経緯はどのようなものだろうか。

　年月はNVSMWの始まりから、さらに10年ほど遡行する。1965年に始まったシリコンの界面に関する国際学会「SISC（Silicon Interface Specialist Conference）」がNVSMWのルーツと言える。「SISC」（現在はSiliconがSemiconductorに改称されている）は現在に至るも継続して開催されおり、非常に歴史の長い学会だ。SISCの設立は当時、MOS（metal oxied semiconductor）構造の安定動作が非常に重要な課題であったことを反映している。当時のMOS構造は非常に不安定であり、金属と酸化物および、酸化物と半導体の界面（interface）のふるまいを確実に把握することが不可欠だった。

不揮発性メモリの研究開発（始まりと専門学会の設立まで）。IMW 2026におけるJan Van Houdt氏の招待講演スライドから筆者が作成したもの［クリックで拡大］