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MTJの自由層に求められるもの:福田昭のストレージ通信(35) 次世代メモリ、STT-MRAMの基礎(13)(2/2 ページ)
磁気トンネル接合(MTJ)は「トンネル障壁層」と「自由層」の2つで構成される。今回は「自由層」について解説しよう。自由層に適した強磁性材料と、その材料が抱える課題について説明する。
高い磁気異方性と高いMR比の両立が課題
もっとも、コバルト鉄ホウ素合金(CoFeB)/酸化マグネシウム(MgO)の組み合わせは、弱点を抱えている。高い磁気異方性と高いMR比の両立が難しいことだ。加熱処理によって界面の酸素比率を最適化する条件と、加熱処理によって薄いCoFeB層の結晶品質を最適化する条件が一致しにくい。特に垂直磁気記録方式では、MR比を高めにくい。
このため、過去にMR比の最高記録を塗り替えた事例(研究成果)は、面内磁気記録方式であり、なおかつ、自由層が厚めのMTJとなっている。材料系もCoFeBではないことが多い。例えばMR比が600%を記録したMTJの材料系は、鉄/酸化マグネシウム/鉄である。
(次回に続く)
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