ニュース
JSR、EUV露光用フォトレジストの米社を子会社に：2021年10月末には完了予定
JSRは、EUV（極端紫外線）露光用のメタル系フォトレジストを手掛ける米国Inpriaの全株式を取得し、完全子会社にすることで合意した。規制当局の承認を得て、2021年10月末には手続きを完了する予定である。
EUV露光で最高性能の限界解像度を達成
JSRは2021年9月、EUV（極端紫外線）露光用のメタル系フォトレジストを手掛ける米国Inpriaの全株式を取得し、完全子会社にすることで合意し、契約を結んだと発表した。規制当局の承認を得て、2021年10月末には手続きを完了する予定である。Inpriaの事業価値について両社は、5億1400万米ドル（約565億4000万円）で合意している。
2007年に設立されたInpriaは、メタル系EUVフォトレジストの開発に取り組み、EUV露光では最高性能の限界解像度を達成しているという。これにより、最先端の半導体製造プロセスにおいて、欠陥が極めて少ない微細パターンの加工を可能にした。
60年以上にわたって、さまざまな機能性材料を製造してきたJSRは、2017年と2020年にInpriaの資金調達ラウンドへ参加。既に、Inpriaの株式21％を保有している。今後、半導体チップの微細化が一段と進む中、最先端の半導体製造ラインではEUV露光が広く導入される見通しから、Inpriaの完全子会社化を決めた。
Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
関連記事
量子技術の産業化を加速、日本企業11社が協議会設立
東芝、富士通、トヨタ自動車などの民間企業11社は2021年5月31日、量子技術の研究開発と社会実装の加速を目指す協議会「量子技術による新産業創出協議会」の設立発起人会を開催した。
量子コンピュータ実機で有機EL発光材料の性能予測
三菱ケミカルと日本IBM、JSRおよび、慶應義塾大学の研究プロジェクトチームは、量子コンピュータ実機を用いて有機EL発光材料の励起状態を高い精度で計算することに成功した。
IBMの「Telum」プロセッサ、不正をリアルタイムで検知
IBMは、トランザクション実行中にAI処理を高速に実行するためのオンチップ・アクセラレーションを搭載したプロセッサ「IBM Telumプロセッサ」について、その詳細を「HotChips」カファレンスで発表した。
日本の半導体産業を復興させるために ―― 経産省「半導体・デジタル産業戦略」を読み解く
2021年6月、経産省は「半導体・デジタル産業戦略」を公表した。経産省がどのようなことを半導体産業界に呼び掛けているのか。それに対して現状の半導体業界はどうなのか、私見を織り交ぜて分析してみたい。
SK hynix、EUV露光による1αnm世代DRAM量産を開始
SK hynixは2021年7月12日（韓国時間）、EUV（極端紫外線）露光装置を使用した初めてのDRAM量産を開始したと発表した。10nmプロセス技術の第4世代である「1α（アルファ）nm世代」の8Gビット LPDDR4 モバイルDRAMで、同年後半からスマートフォンメーカー向けに提供する予定だ。
原子層エッチングがEUVの確率変動を低減
次世代の半導体製造プロセスに必須ともいわれるEUV（極端紫外線）リソグラフィ技術。今回は、大手装置メーカーのLam Researchが、EUVリソグラフィにおいて重要な要素となる確率変動について解説する。