重量はクジラ級！ 超巨大な高NA EUV装置の設置をIntelが公開：EUVリソグラフィの仕組みも（1/2 ページ）

Intelが高NA（開口数）EUV（極端紫外線）露光装置のプロトタイプ「TWINSCAN EXE:5000」の組み立てを完了し、その設置の様子や装置の概要、EUVリソグラフィの仕組みなどを説明する動画を公開した。

[永山準，EE Times Japan]

　Intelは2024年4月19日（米国時間）、高NA（開口数）EUV（極端紫外線）露光装置のプロトタイプ「TWINSCAN EXE:5000（以下、EXE:5000）」の組み立てを完了したと発表。その設置の様子や装置の概要、EUVリソグラフィの仕組みなどを説明する動画を公開した。

組み立てが完了した高NA（開口数）EUV（極端紫外線）露光装置のプロトタイプ「TWINSCAN EXE:5000」［クリックで拡大］ 出所：Intel

重量はシロナガスクジラ級、250個以上に分け梱包しトラック20台で輸送

　Intelによると、EXE:5000は250個以上のクレートで梱包され、43個の貨物コンテナに積まれて輸送されたという。コンテナは複数の貨物輸送機に積まれてシアトルに到着した後、20台のトラックで輸送され、オレゴン州ヒルズボロの「Fab D1X」に納入された。Intelはその後、その後装置の組み立てを進めていて、今回、設置が完了し、校正段階に入ったことを発表した。

左＝250個以上のクレートに梱包されているところ／右＝43個の貨物コンテナに積まれて輸送された［クリックで拡大］ 出所：Intelの動画からキャプチャー

43個に分けた貨物コンテナを飛行機に乗せ、シアトル到着後はまた20台のトラックで、Fab D1Xまで輸送された［クリックで拡大］出所：Intelの動画からキャプチャー

　 Intelが「Gordon Moore Park」と呼ぶ米国オレゴン州ヒルズボロ拠点は同社のプロセス技術の研究開発における中心拠点だ。Intelは、高NA EUV露光装置のために2022年4月、同拠点の開発ファブであるD1Xに30億米ドルを投じて拡張した新棟「Mod3」を開設していた。