「不確実性が高まる」ASML、高NA EUVの導入好調も26年は慎重：粗利益率は予想比上振れ

ASMLの2025年第2四半期業績は、売上高76億9200万ユーロ、粗利益率53.7％だった。ASML CEOのChristophe Fouquet氏は「売上高は予想していた範囲の上限に達し、粗利益率は予想を上回った。2026年を見据えると、AI関連の顧客基盤は依然として強固だ。同時に、マクロ経済および地政学的な動向による不確実性は高まっている」とコメントしている。

[浅井涼，EE Times Japan]

　ASMLは2025年7月16日（オランダ時間）、同年第2四半期（4〜6月）の業績を発表した。それによると、売上高は76億9200万ユーロで、粗利益率は53.7％だった。

　ASML CEOのChristophe Fouquet氏は「売上高は予想していた範囲の上限に達し、粗利益率は予想を上回った。2026年を見据えると、AI関連の顧客基盤は依然として強固だ。同時に、マクロ経済および地政学的な動向による不確実性は高まっている」とコメントしている。

2025年第2四半期までの業績推移［クリックで拡大］ 出所：ASML

　2024年第2四半期の装置の売上高は55億9600万ユーロだった。そのうちEUV露光装置は48％で、出荷台数は11台だった。装置の用途はロジック半導体が69％、メモリが31％。装置出荷先の地域別比率は台湾が最多で、全体の35％を占めた。続く中国が27％、韓国が19％を占めた。

　2024年第2四半期の受注高は55億4100万ユーロで、うちEUV（極端紫外線）露光装置が23億ユーロを占めた。用途はロジックが84％、メモリが16％だった。

装置売上高の内訳［クリックで拡大］ 出所：ASML

　DRAMにおいてリソグラフィによる生産性向上は継続的に進んでいて、Fouquet氏は「『TWINSCAN NXE:3800E』の導入はこの勢いをさらに加速させるものだ」と説明。また、高NA（開口数） EUV露光装置を含むEUV露光装置の導入も計画通りに進んでいるといい、第2四半期に量産用の高NA EUV露光装置である「TWINSCAN EXE:5200B」を初出荷したことも明かした。

「TWINSCAN EXE:5200B」の特徴［クリックで拡大］ 出所：ASML

　TWINSCAN EXE:5200Bは1時間当たり175枚以上のウエハー処理が可能で、高NA EUV露光装置のプロトタイプである「TWINSCAN EXE:5000」と比較して約60％生産性を向上させる。

2030年の売上高は600億ユーロにも達する見込み

　2025年第3四半期（7〜9月）の業績見通しは、売上高が74億〜79億ユーロ、粗利益率が50〜52％。2025年通期では、売上高が前年比約15％増になる見込みだ。

　さらに、2030年の売上高は約440億〜600億ユーロ、粗利益率は56〜60％にも達する可能性があるとしている。