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EUV露光に対応する300mmウエハー塗布／現像装置、TEL：従来に比べ50％以上も欠陥を低減
東京エレクトロン（TEL）が、極端紫外線（EUV）や深紫外線（DUV）を用いた露光プロセスに対応できる300mmウエハー塗布／現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE」を発売する。
生産性と環境性能はこれまでより25％以上も向上
東京エレクトロン（TEL）は2025年12月、極端紫外線（EUV）や深紫外線（DUV）を用いた露光プロセスに対応できる300mmウエハー塗布／現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE」を発売すると発表した。
TELはこれまで、塗布／現像装置として「LITHIUS Pro Z」を10年以上も提供してきた。そして今回、EUV露光による極微細なパターニングにも対応できる新製品を投入することにした。新製品は、高度な欠陥制御技術を備えている。これにより、レジスト塗布が起因となって生じる欠陥を従来の半分以下に低減でき、コスト削減も可能にした。
また、塗布／現像プロセスを高速化するとともに、クリーンルーム内のフットプリント効率を最大化した。この結果、生産性と環境性能をこれまでより25％以上も向上させた。装置のデータ収集能力や情報処理システムの性能も高めた。これらの機能強化によって、装置の稼働率やエンジニアの作業効率をさらに改善できるという。
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