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レゾナック主導「JOINT2」が大詰め 26年は140mm角基板に集中SEMICON Japan 2025

レゾナックは「SEMICON Japan 2025」に出展し、実施中のコンソーシアム「JOINT2」「JOINT3」などを紹介した。2026年7月に終了するJOINT2について、3つの事業項目の進捗具合を語った。

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JOINT2は「順調な進捗で満足できる内容」

 レゾナックは「SEMICON Japan 2025」(2025年12月17〜19日、東京ビッグサイト)に出展し、実施中のコンソーシアム「JOINT2」「JOINT3」などを紹介した。

JOINT2で開発した2.5次元(2.5D)パッケージ見本
JOINT2で開発した2.5次元(2.5D)パッケージ見本[クリックで拡大]

 JOINT2は、2021年8月にレゾナックが立ち上げた、次世代半導体の実装技術や評価技術の確立を目的としたコンソーシアムだ。「微細バンプ接合技術の開発」「微細配線技術の開発」「高信頼性大型基板技術の開発」の3つの事業項目を設け、それぞれ最終目標の実現に向けて活動している。

 JOINT2の実施期間は2026年7月までと、大詰めに入った今、進捗は「順調で満足できる内容だ」(レゾナック担当者)と語る。微細バンプ接合技術の開発は「最終目標に掲げていた、5μmバンプでの10μm接合を実現できている」(同)という。

 微細配線技術の開発でも「最終目標にしていたL/S(ライン/スペース)1/1μmをセミアディティブプロセス(SAP)で実現している」とする。加えてダマシンプロセスでもL/S 2/2μmを達成したという。「ダマシンは配線を埋め込むため、(パターンが)倒れる心配が少なくSAPよりも安定する。一方で露光の精度の確保が難しく、そのなかでL/S 2/2μmを達成できているのは強みだ」(レゾナック担当者)

「微細バンプ接合技術の開発」解説「微細配線技術の開発」解説 左=「微細バンプ接合技術の開発」解説、右=「微細配線技術の開発」解説[クリックで拡大]

 一方、高信頼性大型基板技術の開発は、基板メーカーの供給遅れが影響し、当初予定していた140mmサイズまでたどり着いていない状況だ。ただし「納期はすでに確定しているため、2026年は140mmサイズの開発に着手し、遅れを取り戻す予定だ」(レゾナック担当者)と語っていた。

「高信頼性大型基板技術の開発」解説開発したパネルレベルインターポーザー見本 左=「高信頼性大型基板技術の開発」解説、右=開発したパネルレベルインターポーザー見本[クリックで拡大]

 JOINT3は、パネルレベル有機インターポーザーの開発を目的にしたコンソーシアム。2025年8月に始まったばかりということもあり「技術的な成果はまだ出ていないが、『SEMICON Japan 2026』ではパネルレベル有機インターポーザーの製造方法など報告したいと考えている。参画企業も引き続き募集中だ」(レゾナック担当者)とした。

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