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活版印刷で培った金属加工 1.4nmプロセス向けNILテンプレート、DNP：SEMICON Japan 2025（2/2 ページ）
大日本印刷（DNP）は「SEMICON Japan 2025」に出展し、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）用テンプレートや極端紫外線（EUV）リソグラフィ用フォトマスクを紹介した。
カーボンナノチューブペリクル付きEUVフォトマスクも展示
ブースでは、EUVリソグラフィ用のフォトマスクも展示した。EUV光の高透過率を実現するカーボンナノチューブペリクルを装着したものだ。
DNPは、EUV用フォトマスクとNIL用テンプレート、従来のフォトマスクも、全て同じ部門で手掛けている。「EUVで培った加工技術をNILに展開することも、その逆もある。従来のフォトマスクで培った量産性もある。異なる技術が同じ部門の中で高め合っていることがDNPの強みだ」（同社説明員）
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