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Intelが10nmプロセスの詳細を明らかに：競合に対する優位性を示す？（2/2 ページ）
Intelは2017年に10nmチップ製造を開始する予定だ。さらに、22nmの低電力FinFET（FinFET low power、以下22nm FFL）プロセスも発表した。GLOBALFOUNDRIESなどが手掛けるFD-SOI（完全空乏型シリコン・オン・インシュレーター）に真っ向から挑み、ファウンドリービジネスで競い合う。
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