TGVガラスコア基板のパイロットライン新設、DNP:次世代半導体パッケージ向け
大日本印刷(DNP)は、久喜工場(埼玉県久喜市)内に新設した「TGV(ガラス貫通電極)ガラスコア基板」のパイロットラインを2025年12月から順次稼働させる。量産のための検証を行い、2026年初頭にはサンプル品を出荷する予定だ。
顧客や市場の動向を見極め、2028年度には量産開始へ
大日本印刷(DNP)は、久喜工場(埼玉県久喜市)内に新設した「TGV(ガラス貫通電極)ガラスコア基板」のパイロットラインが、2025年12月から順次稼働を始めると発表した。量産のための検証を行い、2026年初頭にはサンプル品を出荷する予定だ。
半導体パッケージ用の基板としてこれまでは、有機樹脂ベースの基板が一般的に用いられてきた。こうした中、生成AIなどに対応する半導体デバイスでは、機能が異なる複数のチップを組み合わせ、1つのパッケージに集積するチップレット技術が注目されている。このため、パッケージ用基板も大型化し、平たん性や信頼性などに対する要求も一段と厳しくなってきた。
そこでDNPは、2023年にガラスをコア材とするTGVガラスコア基板を開発。現在は主要顧客でその特性や信頼性の評価が進んでいるという。こうした動きを踏まえ、今回はTGVガラスコア基板を製造するためのパイロットラインを新たに設けた。2026年初頭にもサンプル品の供給を始める。さらに、顧客や市場の動向を見極めながら、2028年度の量産開始に向けて生産体制を構築していく計画だ。
TGVガラスコア基板を採用すれば、より高密度な貫通電極の配置が可能となる。パネルは510×515mmと比較的大型サイズでありながら、次世代半導体のパッケージ基板に求められる平たん性と反りを生じさせない剛性を実現した。製品としては、貫通孔に銅を充填した「充填タイプ」と、貫通孔の側壁に金属層を密着させた「コンフォーマルタイプ」を用意するという。
Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
関連記事
1.4nm世代に対応、回路線幅10nmのNIL用テンプレートをDNPが開発
大日本印刷(DNP)は、回路線幅が10nmのナノインプリントリソグラフィ−(NIL)用テンプレートを開発した。NAND型フラッシュメモリに加え、1.4nm世代相当の先端ロジック半導体にも対応できる。2027年にも量産を始める予定だ。
EUV用フォトマスク上で2nm以降の微細パターン解像に成功、DNP
大日本印刷(以下、DNP)は2024年12月12日、EUV(極端紫外線)リソグラフィに対応した、2nmプロセス世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細なパターンの解像に成功したと発表した。さらに、高NAに対応したフォトマスクの基礎評価が完了し、評価用フォトマスクの提供も開始したという。
EUV用フォトマスク製造プロセス開発、DNPが加速
大日本印刷(DNP)は、EUV(極端紫外線)リソグラフィに対応する、2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に始めた。2025年度までに開発を終えて、2027年度には量産を始める予定。
バンプピッチ15μmのウエハーなどを展示、「JOINT2」が研究の進捗を報告
次世代半導体パッケージ実装技術の開発を目指すコンソーシアム「JOINT2」は、「SEMICON Japan 2023」(2023年12月13〜15日/東京ビッグサイト)で、取り組みの内容や研究開発の進捗を紹介した。
解像度1μm以下の直接描画露光装置を開発、SCREEN
SCREENセミコンダクターソリューションズは、先端半導体パッケージの製造工程に向け、解像度が1μm以下の直接描画露光装置「DW-3100」を開発、販売を始めた。
チップレット市場、2035年には1454億ドル規模に
調査会社のSDKI Analytics(以下:SDKI)は2025年11月、「チップレット市場に関する調査レポート:予測2026―2035年」を発表した。同レポートによると、のチップレット市場規模は2026〜2035年の期間中に年平均成長率(CAGR)29.1%で成長し、2035年には1454億米ドルに達する見込みだとしている。
