凸版印刷、中国で14nmフォトマスクを生産：上海工場に最新鋭設備導入

凸版印刷は、中国・上海工場に先端フォトマスクの量産に向けた設備投資を行う。2018年度中には14nmフォトマスクの生産を始める計画である。

[馬本隆綱，EE Times Japan]

アジア市場で2020年に売上高450億円を目指す

上海凸版光掩模有限公司の外観

　凸版印刷は2018年1月19日、中国・上海工場に先端フォトマスクの量産に向けた設備投資を行うと発表した。2018年秋までに順次、量産設備を導入する。2018年4月より65／55nmフォトマスクの量産を始め、2018年度中には14nmフォトマスクの生産を立ち上げる計画だ。

　中国市場では多くの半導体メーカーが生産拠点を設けている。凸版印刷も、米国Toppan Photomasks（TPI）の生産子会社である上海凸版光掩模有限公司（TPCS）が、1995年よりフォトマスクの生産を行ってきた。2015年には90nm対応のフォトマスクを生産できる設備を導入するなど、現地半導体メーカーのニーズに応えてきた。

　TPCSでは、新たな設備投資により、14nmに対応したフォトマスクの生産が可能となる。さらに、保護膜（ペリクル）の貼り替えを含めた一貫生産にも対応できる体制が整った。

　凸版印刷は、今回の設備投資により中国における先端フォトマスクの生産を強化。日本や台湾にある既存の生産拠点を含め、2020年にはアジア市場で約450億円規模の売上高を目指す。さらに、7nm世代以降のEUV（極端紫外線）マスクの開発などでも、先行する考えだ。