東芝、四日市新製造棟の一部クリーンルーム化投資を決定：2018年末完了を予定

東芝は2018年2月20日、NAND型フラッシュメモリの生産拠点である四日市工場で建設中の第6製造棟における一部のクリーンルーム化工事と関連する設備投資（総額270億円）を計画通り実施し、2018年末に完了させると発表した。

[竹本達哉，EE Times Japan]

2017年度設備投資額（発注ベース）6000億円は変わらず

　東芝は2018年2月20日、子会社である東芝メモリの生産拠点「四日市工場」（三重県四日市市）で建設中の第6製造棟における一部のクリーンルーム化工事と関連する設備投資、総額270億円分を計画通り実施し、2018年末に完了させると発表した。

　東芝は2017年8月3日付で、東芝メモリ四日市工場第6製造棟の建屋第2期分の建設を決定するなど、2018年末の建屋全体の完成を予定している（関連記事：東芝のメモリ新製造棟、SanDiskは投資せず）。今回の投資決定は、第2期分建屋に対する一部のクリーンルーム化工事とその関連設備投資。東芝は投資決定に至った理由として「エンタープライズ用サーバやデータセンター向けを中心に3次元フラッシュメモリの需要拡大が2018年以降も見込まれること」を挙げている。

東芝メモリ四日市工場第6製造棟の完成予想図 出典：東芝

　なお、今回の総額270億円分の投資は、2017年11月9日付で公表した2017年度（2018年3月期）の投資計画に含まれ、メモリの他、半導体、ストレージ事業を含むストレージ＆デバイスソリューション事業としての2017年度設備投資額6000億円（発注ベース）に変更はないとする（関連記事：東芝、17年度メモリ投資を2000億円上乗せ）。また今回の投資に関する費用計上などは2018年度になるため、2017年度の業績見通しも変わらない（関連記事：東芝、メモリなき営業益はトントンだが過去最高益更新へ）。