EUV露光に残された課題――ペリクルの現在地と展望とは 人工反強磁性体+圧電体で「超省エネ」デバイス実現へ カラーフィルター微細化に貢献 富士フイルムのKrF露光対応材料 富士フイルムが後工程材料で新ブランド発表 売上高5倍へ 次世代磁気メモリにつながる材料を開発、東京科学大ら