ASMLが解説するEUVリソグラフィ：EE Times Japan Weekly Top10
EE Times Japanで2015年8月22〜28日に、多くのアクセスを集めた記事をランキング形式で紹介します。さまざまなトピックのニュース記事、解説記事が登場!!
→「EE Times Japan Weekly Top10」バックナンバー
1位は「「CEATEC JAPAN 2015」の開催概要を発表」、2位は「ソニー「α7R II」を分解」、3位は「ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（1）〜ArF液浸の限界」がランクインしました。
3位は、「SEMICON West 2015」でASMLが講演した内容をまとめた記事です。最大手の半導体露光装置ベンダーだけに、プロセス技術の課題を最もよく理解していると言っても過言ではないでしょう。記事では、液浸リソグラフィと比較しながら、EUVの利点を分かりやすく解説しています。IntelのCEOであるBrian Krzanich氏は「10nmプロセスにはEUV露光技術は間に合わないかもしれないが、7nmでは導入できる可能性が高い」と、インタビュー記事で述べています。ASMLが、顧客向けにEUV露光装置を初めて出荷して約10年。EUV露光技術は、着実に進化を遂げています。「ASMLがEUVリソグラフィ開発の最新状況を公表（3）〜EUV露光装置の開発史」「ASMLがEUV装置を15台受注、納品先はIntel？」も、ぜひお読みください。
4位のCMOSセンサー市場の動向も、興味深い記事です。同市場は順調に成長するとのことですが、その主な要因はCMOSセンサーの用途の拡大にあります。これまではスマートフォンに搭載するカメラ一辺倒だったものが、車載やセキュリティなど、さまざまな分野で採用が進んでいるのです。CMOSセンサー市場をけん引するのはソニーです。ソニーのミラーレス一眼「α7R II」（2位は、その分解記事です）には、35mmフルサイズの裏面照射型CMOSイメージセンサーが搭載されています。今後も成長が続く同市場の動向は、定期的に追っていきたいと思います。「シリコンに代わる材料を用いたCMOSイメージセンサー、8Kカメラの高感度化を実現」「曲がる有機イメージセンサー、医療からセキュリティまで幅広い分野に応用」なども、オススメです。
Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.