ADEKA、先端フォトレジスト向け光酸発生剤の生産力倍増へ：10億円投資で生産ライン増設

ADEKAは先端フォトレジスト向け光酸発生剤（PAG）の生産増強を発表した。千葉工場（千葉県袖ケ浦市）の既存建屋内に生産ラインを増設する計画で、生産能力は約2倍になる見込みだ。

[杉山康介，EE Times Japan]

先端半導体の需要に対応

千葉工場の光酸発生剤プラント 出所：ADEKA

　ADEKAは2026年8月20日、極端紫外線（EUV）リソグラフィなど先端リソグラフィ工程で使うフォトレジスト用光酸発生剤（PAG）の生産増強を発表した。千葉工場（千葉県袖ケ浦市）の既存建屋内に生産ラインを増設する計画で、2028年9月の営業運転開始を予定する。

　世界的な半導体市場の拡大に伴い、フォトレジスト市場も拡大が進む。同時に露光技術の進化やPFASフリーなどの環境対応によって、材料に求められる性能、品質も高度化している。

　ADEKAの半導体材料事業では、フッ化アルゴン（ArF）リソグラフィやEUVリソグラフィといった超微細加工が求められる先端リソグラフィ領域を重点分野に位置付け、化学増幅型レジスト（CAR）用PAGや金属酸化物レジスト（MOR）用金属化合物の開発、供給体制強化を進めている。

　旺盛なEUV需要に対応するため、千葉工場の先端フォトレジスト向けPAGの生産ラインを増強し、供給能力の向上および生産体制の最適化を図る。投資額は約10億円で、2027年1月から工事を開始して2028年2月に完成、同年9月からの営業運転開始を予定する。生産能力は約2倍になる見込みだ。

　また2026年7月から本格稼働を開始した「半導体イノベーションセンター」（埼玉県久喜市）では、従来型PAG（ポリマーブレンド型）よりも微細で高精度な回路形成が可能なPAGモノマー（ポリマーバウンド型）の開発／評価を行っている。今回の追加投資により、PAGモノマーの供給体制強化も2年前倒しで実行する。

従来型PAGとPAGモノマーの違い［クリックで拡大］出所：ADEKA