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プロセス技術

太陽ホールディングス(太陽HD)は、imecとの共同研究で、次世代半導体パッケージング用材料「FPIMシリーズ」を用い、直径12インチ(300mm)のウエハー上でCD(クリティカルディメンション)1.6μmの3層RDL(再配線層)を形成することに成功した。この成果を「14th IEEE CPMT Symposium Japan(ICSJ2025)」で発表した。

馬本隆綱()

信越化学工業は、300mm GaN専用の成長基板である「QST基板」を用い、imecが5μm厚のGaN HEMT構造を作製し、650Vを超える高耐圧を達成した。「SEMI規格に準拠した300mm基板としては世界最高の破壊電圧」(同社)だという。

馬本隆綱()

産業技術総合研究所(産総研)先端半導体研究センターは、国内半導体製造装置メーカー3社と共同研究した成果に基づき、GAA構造のトランジスタを、300mmシリコンウエハー上に試作し、技術の検証などを行うことができる国内唯一の「共用パイロットライン」を構築した。

馬本隆綱()

SCREENホールディングスは2025年10月31日、ニコンのウエハー接合技術に関する研究開発事業を、同年9月30日付で譲受したことを発表した。半導体先端パッケージ事業の成長を図るためのもので、本譲受によって接合技術の向上、分野におけるプレゼンスを確立するとしている。

杉山康介()

ドイツの板金加工機大手メーカーTRUMPFの日本法人であるトルンプは2025年10月29日、グローバルにおける2024〜25年度(2025年6月期日)業績ならびに事業戦略発表会を開催した。

杉山康介()

ラムリサーチは2025年10月に開催した記者説明会で、新しいプラズマ化学蒸着(PECVD)装置「VECTOR TEOS 3D」について説明した。先端パッケージング向けの装置で、反りが大きいウエハーにも厚さ60μm以上の絶縁体膜を成膜できる。これにより、ダイ間埋め込みの工程において、ボイドやクラックのない絶縁体膜を作成できるとする。

村尾麻悠子()

リックスは、AI向け半導体などで採用が進む2.5/3次元実装技術に対応した「フラックス洗浄装置」を開発したと発表した。極めて狭い隙間にあるフラックス残渣を確実に洗浄できる機構について特許を出願中だ。

馬本隆綱()

アプライド マテリアルズ(AMAT)は、最先端ロジックや高性能メモリチップ、高度なパッケージング技術に対応する半導体製造装置として、ボンディング装置など3製品を発表した。

馬本隆綱()

オキサイドパワークリスタルとMipox、UJ-Crystal、アイクリスタル、産業技術総合研究所(産総研)および名古屋大学の開発グループが、溶液成長法とシミュレーション技術を活用し、6インチp型炭化ケイ素(SiC)ウエハーおよび、6インチ/8インチn型SiCウエハーの試作に成功した。

馬本隆綱()

EV Group(EVG)は、300mmウエハー上で100%のダイオーバーレイ測定を、従来に比べ最大15倍というスループットで行えるダイツーウエハー(D2W)オーバーレイ計測プラットフォーム「EVG40 D2W」を発表した。

馬本隆綱()

名古屋大学発スタートアップのPhoto electron Soul(PeS)と名古屋大学の天野・本田研究室は、共同開発したGaN系半導体フォトカソード技術を用いた検査・計測システムをキオクシア岩手に導入し、半導体デバイス製造工程での欠陥検出などについて評価を行うと発表した。

馬本隆綱()

大阪大学の研究グループは、「高温での希釈水素熱処理」を2段階で行う独自の手法を用い、炭化ケイ素(SiC)MOSデバイスの性能を向上しつつ信頼性の大幅改善に成功した。

馬本隆綱()

東北大学の研究グループは産業技術総合研究所(産総研)と共同で、表面活性化接合とテンプレートストリッピングの技術を組み合わせて、中空ピラミッド構造のマイクロバンプを作製し、異種材料を低温で強固に接合できる半導体実装技術を開発した。

馬本隆綱()

東レエンジニアリングは、レーザー転写技術を応用して、極薄の半導体チップを高いスループットで実装できる技術を開発した。次世代の情報通信システムなどに用いられる先端半導体チップの実装工程で、生産効率を従来の10倍以上に高めることが可能になるという。

馬本隆綱()

ウシオ電機は、独自の補償光学系によりピッチ精度0.01nmを達成するとともに、位相シフト構造を形成する機能を備えた「干渉露光装置」を開発した。2027年春にも販売を始める予定。

馬本隆綱()

ソシオネクストは、コンシューマーやAI、データセンターなどの用途に向けた3次元集積回路(3DIC)の設計に対応していく。5.5Dを含むパッケージ技術とSoC(System on Chip)設計能力を活用して、顧客に最適なソリューションを提供したいとする。

馬本隆綱()

オーク製作所は、フォトマスクを使わずに半導体基板へ回路パターンを焼き付けることができる「ダイレクト露光装置」を開発した。より高い解像性や位置合わせ精度を実現できることから、先端半導体パッケージの製造コストを低減可能だという。

馬本隆綱()
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