ASML、EUV露光装置の生産能力を27年と28年に30％増強：26年通期見通しは上方修正（1/3 ページ）

ASMLは、2026年第2四半期の業績が当初の予想を上回ったことを受け、通期売上高見通しを430億〜450億ユーロ（約494億5000万〜517億5000万米ドル）に引き上げた。AIインフラや広帯域メモリ（HBM）、先端ロジック向けの需要拡大に対応し、2027年には極端紫外線（EUV）露光装置および深紫外線（DUV）液浸露光装置の生産能力を30％増強する。

[Pablo Valerio，EE Times]

　半導体製造装置メーカーのASMLは、2026年第2四半期の業績が当初の予想を上回ったことを受け、通期の業績見通しを上方修正した。

　今回の好決算は、業界団体SEMIの最新レポートとも一致している。同レポートによると、2026年の半導体製造装置の世界売上高は前年比23.2％増加し、過去最高の1659億米ドルを記録する見込みだ。成長をけん引しているのは、より複雑なチップ設計と多額の設備投資を必要とするAIインフラへの投資だ。

第2四半期の売上高は100億ドル

　ASMLの2026年第2四半期決算において、純売上高は93億ユーロ（約107億米ドル）、純利益は29億ユーロ（約33億4000万米ドル）だった。売上総利益率は54％、営業利益率は37.1％を計上。システム売上高は66億ユーロ（約75億9000万米ドル）で、内訳はロジック向けが51％、メモリ向けが49％と、ほぼ均等だった。

　既存装置向けサービス事業（Installed Base Management）の売上高は28億ユーロ（約32億2000万米ドル）で、同社の業績予想を約3億ユーロ（約3億4500万米ドル）上回った。ASMLのCFO（最高財務責任者）を務めるRoger Dassen氏は決算説明会で、予想を上回る業績について「主に顧客がソフトウェアやハードウェアのアップグレードを通じて、短期間で生産性向上を求めたことでもたらされた」と説明した。

システム売上高の内訳［クリックで拡大］出所：ASML

Low-NA EUV露光装置は「価格調整の余地あり」

　決算説明会でアナリストらが注目したのは、ASMLの価格設定力と利益率だ。

　UBSのアナリストであるFrancois Bouvignies氏は「システム価格が顧客に提供する付加価値と一致するように、今後、Low-NA EUV（極端紫外線）露光装置の価格調整を行う予定はあるか」と質問した。これに対してDassen氏は「現在の事業環境では、以前と比べて価格設定の柔軟性が高くなっている」と回答。ただし、受注から納入までのリードタイムが長いので、価格変更の効果は今後の新規受注から段階的に表れるという。

　Bank of AmericaのシニアアナリストであるDidier Scemama氏は「製品構成の変化やソフトウェアアップグレードの増加を踏まえ、2026年下半期にASMLの粗利益率がどのように変化する可能性があるか」と質問した。これに対し経営陣は「液浸露光装置とEUV露光装置の製品構成を適切にし、生産量の増加で固定費負担をカバーする。これが第3四半期および第4四半期の利益率を支えるはずだ」と回答した。