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プロセス技術

「ムーアの法則」を追う微細加工技術などプロセス技術に関する情報をお届け。

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LSI,プロセス技術
5nm比で電力効率は最大45%向上:

Samsung Electronics(以下、Samsung)は2022年6月30日(韓国時間)、GAA(Gate-All-Around)トランジスタ構造を適用した3nmプロセスノードの初期生産を開始したと発表した。まずは、高性能、低消費電力コンピューティングに向けたチップに適用し、その後モバイルプロセッサにも適用していく計画だ。

(2022年06月30日)
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ニュース
LSI,プロセス技術
TSMC「初」の海外R&D拠点:
(2022年06月27日)
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LSI,プロセス技術
2nmについても言及:
(2022年06月24日)
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LSI,プロセス技術
3nmは「息の長いノード」に:
(2022年06月08日)
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統計,プロセス技術
2022年第1四半期は247億米ドル:
(2022年06月06日)
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プロセス技術
切断時間が短くロスも極めて少ない:
(2022年06月03日)
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プロセス技術
2025年春の完成を予定:
(2022年05月16日)
ニュース
LSI,プロセス技術
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Applied Materialsが発表:
(2022年05月16日)
特集
LSI,プロセス技術
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Intelなど10社が業界団体も設立:
(2022年05月10日)
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LSI,プロセス技術
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2022年Q1の決算を発表:
(2022年04月15日)
連載
LSI,プロセス技術,部品/材料
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湯之上隆のナノフォーカス(49):
(2022年04月11日)
ニュース
プロセス技術
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新たな結晶育成技術と装置を開発:
(2022年04月07日)
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先端技術,プロセス技術
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250℃でも原子配列の乱れが少ない:
(2022年03月30日)
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プロセス技術
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乾式で撥水と親水の反復効果を実現:
(2022年03月29日)
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プロセス技術
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表面粗さは0.1nm(RMS)以下:
(2022年03月08日)
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プロセス技術,パワエレ,パワー半導体開発
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6インチ枚葉式HVPE装置を開発:
(2022年03月03日)
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プロセス技術
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自律的に進化を続け状況変化に即応:
(2022年02月15日)
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先端技術,LSI,プロセス技術
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激化するTSMCとの競争:
(2022年02月04日)
特集
メモリ,プロセス技術
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ラムリサーチ:
(2022年01月18日)
ニュース
企業動向,先端技術,LSI,プロセス技術
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予備調査の結果を発表:
(2022年01月12日)
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プロセス技術
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NECファシリティーズらが実証試験:
(2021年12月27日)
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LSI,プロセス技術
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5nmプロセスを拡張:
(2021年12月23日)
連載
LSI,プロセス技術
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福田昭のデバイス通信(338) TSMCが開発してきた最先端パッケージング技術(11):
(2021年12月20日)
連載
LSI,プロセス技術
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湯之上隆のナノフォーカス(45):
(2021年12月14日)
ニュース
プロセス技術
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イオン液体でプロセス温度を拡張:
(2021年12月13日)
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LSI,プロセス技術
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2021年10月に上場:
(2021年12月06日)
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プロセス技術,パワエレ,パワー半導体開発
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日本製鋼所と三菱ケミカル:
(2021年11月24日)
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LSI,プロセス技術
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コスト増の課題解決の鍵:
(2021年11月15日)
ニュース
プロセス技術,計測/検査装置
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繰り返し作業を装置に「おまかせ」:
(2021年11月09日)
特集
LSI,プロセス技術
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「2nmをはるかに超えるプロセス」可能に:
(2021年11月02日)

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