キオクシアは、3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH」の5世代目となる、112層積層プロセスを用いた製品を試作し、基本動作を確認した。試作したのは512ギガビットTLC製品で、2020年第1四半期(1〜3月)よりサンプル出荷を始める。
キオクシアは2020年1月、3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH」の5世代目となる、112層積層プロセスを用いた製品を試作し、基本動作を確認したと発表した。試作したのは512ギガビットTLC製品で、2020年第1四半期(1〜3月)よりサンプル出荷を始める。
今後は、112層積層プロセスを用いた1テラビットTLC製品や1.33テラビットQLC製品なども順次、製品化していく予定だ。
開発した512ギガビットTLC製品は、回路技術やプロセスを最適化することで、チップサイズを小さくした。96層積層プロセスを用いたBiCS FLASHメモリセルに比べ、単位面積当たりのメモリ容量は20%向上したという。また、インタフェースの性能を50%向上し、プログラム性能やリード性能を高めた。
新製品は、データセンター向けSSDやエンタープライズSSD、PC向けSSD、スマートフォン向け製品をはじめ、5Gネットワークや人工知能、自動運転向けのシステムなどに提案していく。
第5世代の3次元フラッシュメモリプロセスを用いた製品は、ウエスタンデジタルと共同開発した。今後、三重県の四日市工場および、岩手県の北上工場で量産に入る。
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