高NA EUV露光装置の登場：電子ブックレット

「EE Times Japan」に掲載した主要な記事を、読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。今回は、ASMLが開発する「高NA EUV露光装置」に関して、その技術の概要や初号機がASMLから出荷されIntelに設置されるまでの過程などを伝えた記事をまとめました。

[EE Times Japan]

「EE Times Japan」に掲載した主要な記事を、読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。今回は、ASMLが開発する「高NA（開口数） EUV露光装置」に関して、その技術への期待や初号機がIntelに設置されるまでの過程、さらに今後計画されている、NAが0.75の「Hyper-NA」EUV露光装置を含むロードマップなどを伝えた記事をまとめました。

高NA EUV露光装置の登場

収録記事
　・ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に
　・ASML、初の高NA EUV露光装置をIntelに出荷
　・1台3億8000万ドル、重量は150トン――明かされる高NA EUV露光装置のスケール
　・Intelが高NA EUV装置の組み立てを完了、Intel 14Aからの導入に向けて前進
　・重量はクジラ級！　超巨大な高NA EUV装置の設置をIntelが公開
　・開口数0.75の「Hyper-NA」EUV装置　2030年に登場か
　
　＊）本ホワイトペーパーは、2021年11月〜2024年6月にEE Times Japanで掲載した記事を再編集したものです。

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