先端半導体用フォトレジスト技術棟建設、住友化学：27年度末完成予定

住友化学は、大阪工場（大阪市此花区）内にEUVレジストおよびArFレジストといった先端半導体用フォトレジストの製造プロセス開発や品質評価／分析などを行う機能を集約するための新たな「技術棟」を建設する。完成は2027年度末の予定だ。

[馬本隆綱，EE Times Japan]

EUVレジストなどの製造プロセス開発や品質評価の機能を集約

　住友化学は2026年4月、大阪工場（大阪市此花区）内に、極端紫外線（EUV）レジストおよびArFレジストといった先端半導体用フォトレジストの製造プロセス開発や品質評価／分析などを行う機能を集約するための新たな「技術棟」を建設すると発表した。完成は2027年度末の予定だ。

新棟のイメージ図［クリックで拡大］ 出所：住友化学

　住友化学は、2022年に大阪工場内に半導体フォトレジストの開発設計から評価までの開発力を強化するため建屋を建設し、先端露光機などを導入してきた。今回新たな技術棟を建設することにしたのは、既存の工場内に分散していたEUVレジストやArFレジストの製造プロセス開発や品質評価および、分析に関する機能を一体化するとともに、プロセス管理の高度化を図るのが狙い。

　新技術棟の稼働によって、量産立ち上げまでの時間短縮や品質のさらなる安定化が可能となり、品質信頼性や供給安定性を一段と高めていく計画である。建屋は地上6階建てで、延べ床面積は約3200m²だ。