半導体ウエハー出荷面積、2015年も過去最高へ：今後2年間は緩やかな成長

SEMIは、半導体向けシリコンウエハーの出荷面積予測を発表し、2015年の同出荷面積は、過去最高を記録した2014年を上回り100億4200万平方インチに達するとした。

[庄司智昭，EE Times Japan]

　SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International）は2015年10月21日、半導体向けシリコンウエハーの出荷面積予測を発表し、2015年の同出荷面積は過去最高を記録した2014年を上回り100億4200万平方インチに達するとした。

　今回の予測によると、鏡面ウエハーおよびエピタキシャルウエハーの合計出荷面積は、2016年が101億7900万平方インチ、2017年が104億5900万平方インチとなっている。2015年に引き続き、2016年、2017年も過去最高基準が継続する見込みとしている。

　SEMIのCEOであるDenny McGuirk氏は、「2015年はシリコン出荷面積が記録を更新する年となるが、これは主に大口径ウエハーによるものである。今後2年間は、落ち着いた動きが予測されるが、緩やかな成長が続くだろう」とリリース上で述べている。

2015年半導体用シリコンウエハー出荷面積予測

	実績		予測
	2013年	2014年	2015年	2016年	2017年
シリコンウエハー面積 （百万平方インチ）	8834	9826	10042	10179	10459
年成長率	0％	11％	2％	1％	3％
太陽電池用シリコン、ノンポリッシュシリコンは含まない 出典：SEMI

　同統計に用いられている数値は、ウエハーメーカーからエンドユーザーに出荷されるバージンテストウエハー、エピウエハーを含む鏡面ウエハーの合計出荷面積を予測するもの。ノンポリッシュドウエハーと再生ウエハー、太陽電池用シリコンは含まれていない。