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ウシオ、マスク検査用EUV光源を量産向けに初検収：EUVリソグラフィの実用化を加速

ウシオ電機は2019年7月17日、検査装置メーカーから受注している複数のEUVリソグラフィマスク検査装置用EUV（Extreme ultraviolet：極端紫外線）光源のうち、量産プロセス向けEUV光源が初めて検収された、と発表した。同社は、「今回の検収により、次世代半導体製造工程の量産プロセスに必要な、高輝度EUV光を使用した"Actinic"なEUVリソグラフィ用マスク検査が可能になる」としている。

» 2019年07月18日 10時30分公開

[永山準，EE Times Japan]

ウシオ電機のEUV光源を搭載した露光、分析システム　出典：ウシオ電機（2017年1月発表のプレスリリースより

　EUVリソグラフィは、高度な微細化が進む次世代半導体製造工程には欠かせない技術として、大手デバイスメーカーを中心に実用化に向けた検証が進められているが、量産技術として確立するためには、高精細なマスクの欠陥を検査、検出するためのEUV光源の実用化が必須とされている。

　同社は、EUV光源をコアコンピタンスの1つと位置付けており、2017年3月からオランダ応用科学研究機構（TNO：The Netherlands Organization for Applied Scientific Research）のEUV照射、分析用ファシリティ「EBL2」において、高輝度SnLDP（レーザーアシストプラズマ放電方式）EUV光源搭載機による各種研究、評価サービスを提供するなど、一貫して高輝度EUV光源の研究開発に取り組んでいる。

　今回の検収は、こうした実績に加え、「検査装置メーカーに先行納入し、既に稼働している研究開発機向けEUV光源の性能が高く評価されたものだ」（同社）という。

　同社のEUV事業担当役員、井ノ迫伸啓氏は、「今回の量産プロセス向け検査装置用EUV光源の検収によって、期待されている社会インフラの実現に貢献できることは、光企業である私たちにとって大きな喜びだ。今後を担う社会的責任を肝に銘じて、製品の安定供給に全力を挙げて取り組んでいく」としている。

Intel、EUVの準備は整ったが課題も
IntelのEUV（極端紫外線）プログラムの責任者であるBritt Turkot氏は、「EUVリソグラフィは導入の準備ができており、技術開発に向けた量産体制に入っている」と述べた。しかし、「複雑で高額なシステムを利用して最先端のチップを量産するには、依然としていくつかの課題がある」とも述べている。
Samsung、EUV適用7nmチップ開発を加速
ファウンドリーの間で現在、EUV（極端紫外線）リソグラフィを使用した業界初となる半導体チップを実現すべく、競争が繰り広げられている。Samsung Electronics（以下、Samsung）は、「EUVリソグラフィを適用した複数の7nmプロセスチップをテープアウトした」と発表した。
高照度と小型化を両立したエキシマ光照射ユニット
ウシオ電機は2018年12月、半導体製造プロセス向けエキシマ光照射ユニットとして、従来製品に比べ5倍の高照度を実現しながら体積を60％小型化した製品を開発したと発表した。2019年度中に発売する予定。
光技術活用の受託微細加工サービス開始ウシオ
ウシオ電機は2017年11月から、リソグラフィ技術などを活用した微細加工を受託するサービスを開始した。
光損失10分の1、変換効率5倍の半導体光変調器
東京大学と技術研究組合光電子融合基盤技術研究所（PETRA）が共同で、従来のシリコン光変調器に比べ光損失が10分の1、変換効率が5倍の半導体光変調器を開発した。
評価サービス受付開始、ウシオ製EUV光源搭載
オランダ応用科学研究機構（TNO）で、ウシオ電機製EUV光源を搭載した露光、分析ファシリティ「EBL2」が稼働、各種研究、評価サービスの受付を始めた。