150mm酸化ガリウムウエハーをサンプル出荷、ノベルクリスタル：2029年に本格量産へ

ノベルクリスタルテクノロジーは、次世代パワー半導体に向けて直径150mm（6インチ）酸化ガリウム（β-Ga2O3）ウエハーのサンプル出荷を始める。2027年には150mm β-Ga2O3エピウエハーのサンプル出荷を開始し、2029年の本格量産を目指す。

[馬本隆綱，EE Times Japan]

29年には新たな結晶育成技術で大幅なコストダウンも

　ノベルクリスタルテクノロジーは、次世代パワー半導体に向けて直径150mm（6インチ）酸化ガリウム（β-Ga₂O₃）ウエハーのサンプル出荷を2026年3月から始めると発表した。2027年には150mm β-Ga₂O₃エピウエハーのサンプル出荷を開始し、2029年の本格量産を目指す。

150mm β-Ga₂O₃ウエハーの外観［クリックで拡大］ 出所：ノベルクリスタルテクノロジー

　β-Ga₂O₃は、炭化ケイ素（SiC）や窒化ガリウム（GaN）を超えるバンドギャップエネルギーを持つため、次世代パワー半導体材料として注目されている。ただ、既存のパワーデバイス製造ラインを活用し本格量産を行うには、150mm以上の大口径ウエハーが必要といわれているが、これまでのβ-Ga₂O₃ウエハーは直径が100mm（4インチ）にとどまっていた。

　そこでノベルクリスタルテクノロジーは、100mmサイズのβ-Ga₂O₃ウエハー製造で培った結晶育成技術「EFG法」を用いて、150mmサイズのβ-Ga₂O₃ウエハーを開発した。早期にサンプル品の供給を始めることで、150mmエピ成膜技術の開発や量産に向けたプロセスラインの整備を後押ししていく。

　これらの研究成果を活用し、2027年には150mm β-Ga₂O₃エピウエハーのサンプル出荷を始める。さらに、量産を始める2029年には、高価な貴金属製るつぼを用いない新たな結晶育成技術「DG法」を導入し、大幅なコストダウンを目指す。2035年には200mm（8インチ）サイズのβ-Ga₂O₃ウエハーを開発し、供給していく予定である。