レゾナック、高純度フッ化水素ガスの製造体制強化：26年内に徳山事業所で製造開始

レゾナックは、半導体回路のエッチング工程で用いられる高純度フッ化水素ガス（HFガス）の製造体制を強化する。2026年内に徳山事業所（山口県周南市）で製造を始める。これにより、同社のHFガス国内製造拠点は川崎事業所との2拠点体制となる。

[馬本隆綱，EE Times Japan]

クライオエッチング向けに、高純度の材料を安定的に供給

　レゾナックは2026年6月、半導体回路のエッチング工程で用いられる高純度フッ化水素ガス（HFガス）の製造体制を強化すると発表した。2026年内に徳山事業所（山口県周南市）で製造を始める。これによってHFガスの国内製造拠点は川崎事業所との2拠点体制になる。

　高純度ガスは、半導体ウエハーの回路形成に用いられる材料だ。近年は、データセンターやAI用途での需要拡大を背景に、AI向け半導体デバイスでは半導体チップを積層した3次元構造の採用が進んでいる。このため、従来に比べ深くて滑らかな微細構造を高い精度で形成する必要がある。

　ここで注目されているのがクライオエッチング技術だ。ウエハーを極低温に冷却した状態でエッチングを行う。これにより、側壁を保護しながら加工できる。HFガスは、このエッチングプロセスにおいて、酸化膜の除去などに用いられる。しかも、クライオエッチングでは、高純度の材料を安定的に供給することが求められているという。

　こうした状況を踏まえ、徳山事業所でもHFガスの製造を始めることにした。これによって、需要が拡大しても安定供給が行えるよう、製造能力を高めていく。