なお、三菱電機の示す図からは、既にセルピッチには余裕がないように見える。多留谷氏はこの点について「現在の構造では、ここまでがほぼ限界だ。さらにオン抵抗を下げるには、新しいデバイス構造が必要になる」と言及していた。次世代ではスーパージャンクションのような新しい構造技術を採用する可能性があるということだ。
その他、プレーナー型のSiC MOSFETについても「用途に応じて使い分けていく考え」とし、次世代品開発も進めていく方針だ。例えば、高耐圧品について現在の3.3kV品だけでなく、4.5kVや6.5kVクラスについても開発を進めているとしている。
デバイス構造と並んで、第5世代を支えるもう1つの柱が量産技術だ。第5世代では、デバイス構造の改良に加え、6インチから8インチウエハーへ移行し、ダイコスト低減を図る。また、表面メタライズでは、顧客の多様な実装要求に対応するとした。
三菱電機は熊本県菊池市に8インチ SiCウエハー工場を建設し、現在試作を進めている。既存の熊本工場では8インチのシリコンデバイスと6インチのSiCデバイスを量産してきたが、この新工場では8インチ SiCウエハー専用ラインを構築し、検査工程まで一貫した自動化された生産ラインを実現。設備の稼働状況や製造データはMESで一元管理し、生産効率を約30%向上させるとともに、約40%の省人化を実現するとしている。
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