三菱ケミカルは、次世代光通信向け有機電気光学(OEO)材料を手掛ける米国NLM Photonicsに出資した。AIデータセンター向け光インターコネクト材料市場における技術優位性を高めていく。
三菱ケミカルは2026年9月、次世代光通信向け有機電気光学(OEO)材料を手掛ける米国NLM Photonicsに出資したと発表した。AIデータセンター向け光インターコネクト材料市場における技術優位性を高めていく。
NLMは、ワシントン大学におけるOEO材料研究の基盤技術を実用化するために設立されたスタートアップ。同社の「Selerion」材料は、シリコンフォトニクスデバイスに用いられ、シリコン・有機ハイブリッド型フォトニック集積回路(PIC)を実現できるという。従来の無機材料を用いた集積回路に比べ、高速かつ低消費電力で光を変調できるのが特長だ。
生成AIの普及により、データセンターにおけるデータ通信量は飛躍的に増加していて、光インターコネクトの重要性が高まっている。ここで性能を左右するのが、光変調器に用いられる材料だという。
こうした中でNLMは、研究段階にあったOEO材料を実用レベルに高めるとともに、現行の半導体製造プロセスに適用できることを示した。
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