東芝は2016年11月8日、既に建設を決めていたNAND型フラッシュメモリ製造拠点「四日市工場新製造棟」(三重県四日市市)の建設スケジュールを発表した。
東芝は2016年11月8日、2016年3月に建設することを決めていたNAND型フラッシュメモリ新製造棟の建設に2017年2月に着手し、2018年夏に第1期分を完成させると発表した。これまで新製造棟建設スケジュールについては、市場動向の見極めを理由に未定だった。
2017年2月着工が決まった新製造棟は、NANDフラッシュの製造拠点である四日市工場(三重県四日市市)内に立地し、3次元構造のNANDフラッシュ(3D NAND)「BiCS FLASH」の増産を目的に建設するもの。新製造棟では、3D NAND固有の製造工程を担う予定だ。
東芝では、「市場動向を見極めながら最適な生産スペースを確保するという観点から、四日市工場第5製造棟と同様に2期に分けて建設する」とし、今回着工するのは第1期分。また、新製造棟とは別に、現在四日市工場内に分散していた開発機能を集約しNANDフラッシュ開発を加速させることを目的に開発センターを新製造棟隣接地に新設することも今回決定した。
新製造棟に導入する具体的な設備や、生産能力、生産スケジュールなどは未定で、市場動向を踏まえ今後決定する。なお、導入設備については、これまでの製造棟と同様に、Western Digital(ウエスタンデジタル)と「協議の上、共同投資を今後進める予定」(東芝)としている。
なお、東芝は2016年3月時点で、新製造棟の整備に対し2016年度(2017年3月期)からの3年間で総額3600億円程度を投資すると明らかにしている。
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