今回の協業では、Appliedが装置の開発を担当し、ウシオ電機が製造、販売、顧客サポートを担当する。ただし、ウシオ電機のグループ執行役員で事業統括本部Photonics Solutions GBU長を務めるWilliam F. Mackenzie氏によれば、「明確に線引きしているわけではなく、お互いの強みを生かして柔軟に対応していく」という。
「Appliedは半導体製造において強い基礎技術を持っている。ウシオ電機は何十年もリソグラフィ分野に関わってきた。両社の技術の“いいとこ取り”をすることで、最先端の半導体パッケージのTime to Marketを早めることができると確信している」(Applied Materialsのグループバイスプレジデント兼セミコンダクタ プロダクトグループ ジェネラルマネージャーのSundar Ramamurphy氏)
ウシオ電機のWilliam F. Mackenzie氏(左)とApplied MaterialsのSundar Ramamurphy氏
さらなる微細化に向けたEUV/GAA向け技術
Applied Materialsの3D GAA(3次元Gate-All-Around)トランジスタ技術とEUV(極端紫外線)リソグラフィソリューションの最新ポートフォリオは、ムーアの法則による2D(2次元)スケーリングの限界に対処するために設計された。EUVによる2Dスケーリングの拡張を熱望する半導体メーカーのために電力効率と性能、面積、コスト、市場投入までの期間(PPACt:Power efficiency, Performance, Area, Cost, and time to market)を改善することを目指している。