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「技術絶やさないで」中国勢が躍進するSiC市場、日本の勝ち筋を探る：名古屋工業大学電気・機械工学科教授加藤正史氏（3/3 ページ）

» 2025年11月27日 10時00分公開

[浅井涼，EE Times Japan]

日本企業は「技術者を大切に、技術を途絶えさせないで」

――今後の研究における目標について教えてください。

加藤氏　SiCにはまだ分かっていないことも多いので、それを1つ1つ解明していきたい。評価装置に関してはまだ発表していない新しいアイデアもある。研究者は新しい題材に手が出がちだが、ここまで関わってきたからには残りの研究者人生はSiCを中心に据え、日本のSiC産業に貢献したい。

――研究者の視点から、特に国内企業に伝えたいことは何ですか。

加藤氏　SiC産業において日本の存在感が薄れてしまっているとはいえ、今も三菱電機やデンソーといった企業が健闘している。今後もこうした体制を維持していくには、ウエハーをよく知る技術者を育てていくことが重要だ。買ってきたウエハーを受け入れるだけでなく、良いウエハーと悪いウエハーを見極められなくてはいけないので、中国がトップになったからといって「それなら日本でSiCウエハーは作らなくてもよい」という流れは避けたい。若手技術者もICSCRMなどの学会で最新の発表を見て「きちんと驚ける」くらいには材料の知識をつけてもらい、上流から下流まで見られるようにしてほしい。

　部門の縮小などでベテラン技術者の受け皿が少ないのも問題だ。国外への流出の原因にもなっていて、残念に思う。「あの人が引退したらこの技術はどうするのか」と思うこともあるので、技術者を大切にしてほしい。

　日本は、Siの半導体ビジネスで最先端プロセスを製造していない「空白期間」を作ってしまった。現在はRapidusを中心に再び最先端半導体製造に取り組んではいるが、一度技術を途絶えさせてしまうともう一度立ち上げるのは大変だ。SiCもビジネス上不利になることもあると思うが、それでも撤退はせず、細々とでも続けてほしい。半導体ビジネスは山あり谷ありで長期的な波があるので難しいことだとは思うが、仮に今が谷でも将来の山に向けてつなげてほしい。

「パワーエレクトロニクスイニシアチブ 2025」開催！

　EE Times Japan／EDN Japanは2025年12月4日（木）、「パワーエレクトロニクスイニシアチブ 2025」を開催します。電力変換器の高密度化、GaNパワーデバイスのxEVへの応用、次世代パワーデバイスのパッケージ技術、SiCウエハー加工プロセス研究の最前線などをお届けします。無料でご視聴できますので、ぜひご参加ください！　※視聴にはアイティメディアIDの登録が必要になります。

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SiCの20年　ウエハーは「中国が世界一」に、日本の強みは何か
次世代パワー半導体材料として注目度が高まる炭化ケイ素（SiC）。SiCパワーデバイスの研究開発は2000年代以降、飛躍的に進展してきた。SiCのこれまでの研究開発やパワーデバイス実用化の道のり、さらなる活用に向けた今後の課題について、京都大学工学研究科教授木本恒暢氏に聞いた。
独自技術で攻めるサンケン電気のGaN戦略　30年には縦型量産も
サンケン電気がGaNパワーデバイス市場への本格参入を狙っている。競争も激化しているが、高耐圧かつ低コストを実現する独自技術の横型GaNで差別化を図る他、2030年度には縦型GaNの量産も計画しているという。今回、同社幹部に詳細を聞いた。
「GaNのコストは5年以内にSi並みに」　ロームの勝ち筋は
「窒化ガリウム（GaN）は、遅くとも5年以内にシリコン（Si）のコストに追い付くだろう」――。ロームは、GaNパワー半導体の大きな課題の1つとされるコスト面について、こうした見解を示す。民生向け中心からAIサーバや車載などへの展開が加速し、本格化してきたGaNパワー半導体市場。ロームは、GaNのさらなる普及に注力しながら、独自の強みを生かし市場での存在感を高めていく方針だ。
新JFETやSuper Junction品投入へ、InfineonのSiC戦略
Infineon Technologiesは高速かつ堅牢な電力供給システムに対する需要に対応するSiC JFETデバイスや、オン抵抗を従来比40％削減するトレンチベースのスーパージャンクション技術を採用したSiC MOSFETの開発など、SiCパワー半導体事業においてさらなる競争力の強化を図っている。
Infineonのパワー半導体最前線　「技術革新の中核」フィラッハで聞く
Infineon Technologiesが、オーストリア・フィラッハ拠点でメディアやアナリスト向けのイベントを実施。事業責任者らが同社のシリコン（Si）、炭化ケイ素（SiC）および窒化ガリウム（GaN）パワー半導体の最新動向について語ったほか、2021年にオープンした300mmウエハー工場のクリーンルームも公開した。