日本山村硝子と山村フォトニクスは、台湾の工業技術研究院(ITRI)および中國製釉と連携し、半導体向け大画面ガラスセラミック基板の開発を一段と加速していく。
日本山村硝子と山村フォトニクスは2026年4月、台湾の工業技術研究院(ITRI)および中國製釉と連携し、半導体向け大画面ガラスセラミック基板の開発を加速していくと発表した。
山村グループは、ガラス材料の技術を基盤として、高付加価値材料の開発に取り組んできた。こうした中、半導体分野では次世代基板材料として、低誘電特性と高い寸法安定性を両立できるガラスセラミック基板が注目されている。特に、AIアクセラレーターやデータセンター向けGPU、高速通信モジュールなどでの活用が見込まれている。
そこで山村グループは、ITRIや中國製釉と技術連携し、半導体先進パッケージング材料市場に参入することを決めた。今回の合意に基づき、ITRIや中國製釉と協力しながら、研究開発や評価/検証、量産を行うための体制を整える。その上で、大面積対応を視野に入れながら、低誘電特性と機械的信頼性を兼ね備えたガラスセラミック基板の早期実用化を目指すことにした。
自然界に存在しない構造を持つ2次元酸化鉄を作製
タングステンの製造能力1.5倍に、住友電工グループ
石炭灰から「レアアース元素」を回収、新日本繊維【訂正あり】
高い性能を維持し光にも強い有機半導体材料を開発
TDKと日本化学、MLCC材料開発会社を設立
次世代パワー半導体向け接合材を開発、エレファンテックCopyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
記事ランキング