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ムーアの法則、実質的には28nmが最後か：設計に最も使われているのは65nm以前（2/2 ページ）

» 2016年09月05日 11時30分公開

[Zvi Or-Bach（MonolithIC 3D），EE Times Japan]

設計に最も使われているのは65nm以前

　50年にわたり続いてきたムーアの法則は、明らかに終わりを迎えつつあるといえるだろう。そして、半導体業界は今や、新たな現実に直面しているのだ。

　Mentor Graphicsのブログ記事「Established Technology Nodes: The Most Popular Kid at the Dance（実績あるプロセス技術：最も人気が高い技術は）」も、以下の通り、同様の業界ダイナミクスを示している。

　「65nm以前のプロセス技術は現在も、ウエハー製品全体の約43％、ウエハー工場の生産能力全体の48％に適用されている。さらに重要なのが、設計全体の約85％が、65nmプロセス以前の技術を適用しているという事実である。実績のあるプロセス技術がすぐに消滅することはあり得ないのだ。

65nm以前の実績あるプロセスが使われている割合は現在も高い（クリックで拡大）出典：VLSI Research

　これは、イノベーションの観点からは良いニュースだといえる。選択の多様性によって、3D NANDやFD-SOI（完全空乏型シリコン・オン・インシュレーター）、MEMSなどの新しいアイデアや技術がサポートされることになるためだ。これらの技術は、成長市場であるIoT（モノのインターネット）向けとしても期待されるものである。

【翻訳：田中留美、編集：EE Times Japan】

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