ウシオ電機は、「SEMICON Japan 2016」(2016年12月14〜16日/東京ビッグサイト)で、フォトレジストが不要で直接パターニングができる真空紫外平行光ユニットなどを展示している。
[庄司智昭,EE Times Japan]
レジスト工程なしで1μmまで
ウシオ電機は、2016年12月14〜16日に東京ビッグサイトで開催されている「SEMICON Japan 2016」で、フォトレジストが不要で直接パターニングができる真空紫外平行光(VUV)ユニットなどを展示している。真空紫外とは従来のパターニングで使用される365nmより短波長である200nm以下の光を指す。波長が短い真空紫外光は、表面改質や精密ドライ洗浄用光源としてFPD半導体の製造プロセスで活用されているのが一般的だ。
「地図はここに」 40周年SEMICONが魅せる世界
マイクロエレクトロニクス製造サプライチェーンの国際展示会「SEMICON Japan 2016」(2016年12月14〜16日/東京ビッグサイト)は、2016年の開催で40周年を迎える。主催者であるSEMIジャパンの代表を務める中村修氏に、その見どころなどについて聞いた。
銅配線プロセスとメタルハードマスクで新技術
アルバックは、「SEMICON Japan 2016」(2016年12月14〜16日/東京ビッグサイト)で、マルチチャンバー型スパッタリング装置として、メインプラットフォーム向け「ENTRON-EX W300」や、小規模量産ライン向け「MLX-3000N」などを紹介する。