EE Times Japan > メモリ／ストレージ >

メモリホールにおけるエッチングと成膜の難度を軽減する2つの手法：福田昭のストレージ通信（128） 3D NANDのスケーリング（14）（2/2 ページ）

» 2018年12月21日 10時30分公開

[福田昭，EE Times Japan]

前のページへ 1|2 　　　　　　

ペア薄膜の厚みを減らす

　次に紹介するのは、ペア薄膜の厚みを減らす手法である。「バーティカル・スケーリング（Vertical Scaling）」と呼ばれる。

　ペア薄膜を構成する制御ゲート（ワード線）層と絶縁層の厚みを減らすと、同じペア数でも全体の高さが減少する。するとエッチングのアスペクト比が下がる。この結果、メモリホールのエッチングと成膜の技術的な難度が緩和される。

ペア薄膜の厚みを減らす手法「バーティカル・スケーリング（Vertical Scaling）」の概要と課題。出典：Applied Materials（クリックで拡大）

　もちろん、課題はある。厚みを減らすと制御ゲート（ワード線）の電気抵抗と寄生容量が増大する。また、隣接するセル間の電気的な干渉が増加する。そして絶縁膜を薄くしても品質を維持する必要がある。こういった課題に対処しなければならない。

（次回に続く）

⇒「福田昭のストレージ通信」連載バックナンバー一覧

垂直方向に並んだセルトランジスタを一気に作る
3D NANDフラッシュ製造におけるキープロセスの1つ、「メモリセルの形成（Cell Formation）」技術について解説する。
高アスペクト比の細長い孔をハードマスクによって形成（続き）
前回に続き、3D NANDフラッシュ製造におけるキープロセスの1つ、「高アスペクト比（HAR：High Aspect Ratio）のパターン形成」を取り上げる。今回は、同技術の異方性エッチングについて解説する。
Intelは「データの移動・保存・処理」で貢献
Intelの日本法人であるインテルは2018年12月17日、都内で開催した記者説明会で2018年の活動の振り返りと今後の展望について説明した。
大幅に消費電力を低減したFRAMを発表
Cypress Semiconductor（サイプレスセミコンダクタ）は2018年11月14日に開幕した展示会「ET＆IoT Technology 2018」（会場：パシフィコ横浜／会期：2018年11月16日まで）で、超低消費電力を特長にしたFRAM（強誘電体メモリ）の新製品「Excelon LP F-RAM」を発表した。
DRAMの価格下落が加速
メモリチップ価格の追跡を手掛ける市場調査会社TrendForceによると、DRAM価格は2018年第4四半期（10～12月）に同年前期比で約5％下落する見込みだという。
2018年の半導体売上高、過去最高となる見込み
SEMIによると、2018年における半導体売上高は4700億米ドルに達し、2017年に続き過去最高を更新する見込みだという。