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JSR、EUV露光用フォトレジストの米社を子会社に：2021年10月末には完了予定

JSRは、EUV（極端紫外線）露光用のメタル系フォトレジストを手掛ける米国Inpriaの全株式を取得し、完全子会社にすることで合意した。規制当局の承認を得て、2021年10月末には手続きを完了する予定である。

» 2021年09月22日 10時30分公開

[馬本隆綱，EE Times Japan]

EUV露光で最高性能の限界解像度を達成

　JSRは2021年9月、EUV（極端紫外線）露光用のメタル系フォトレジストを手掛ける米国Inpriaの全株式を取得し、完全子会社にすることで合意し、契約を結んだと発表した。規制当局の承認を得て、2021年10月末には手続きを完了する予定である。Inpriaの事業価値について両社は、5億1400万米ドル（約565億4000万円）で合意している。

　2007年に設立されたInpriaは、メタル系EUVフォトレジストの開発に取り組み、EUV露光では最高性能の限界解像度を達成しているという。これにより、最先端の半導体製造プロセスにおいて、欠陥が極めて少ない微細パターンの加工を可能にした。

　60年以上にわたって、さまざまな機能性材料を製造してきたJSRは、2017年と2020年にInpriaの資金調達ラウンドへ参加。既に、Inpriaの株式21％を保有している。今後、半導体チップの微細化が一段と進む中、最先端の半導体製造ラインではEUV露光が広く導入される見通しから、Inpriaの完全子会社化を決めた。

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