Intelは、半導体製造拠点拡大に向けて米国政府から最大85億米ドルの補助金支給を受けると発表した。最大110億米ドルの融資資格も得る見込みで、同社が既に発表している5年間で1000億米ドル規模の投資と合わせると米国の半導体産業で過去最大級の投資額になる。
Intelは2024年3月20日(米国時間)、半導体製造拠点拡大に向けて米国政府から最大85億米ドルの補助金支給を受けると発表した。最大110億米ドルの融資資格も得る見込みだという。この資金提供は、米国の半導体産業支援策「CHIPS and Science Act」(CHIPS法)に基づくものだ。
Intelはこの支援を受けて同社のアリゾナ州、ニューメキシコ州、オハイオ州、オレゴン州の拠点での半導体製造と研究開発を推進する。
Intelは5年間で1000億米ドルを超える米国への投資計画を既に明らかにしていて、今回発表したCHIPS法による資金調達と合わせると、米国の半導体製造業における投資額としては過去最大級になる。米商務省によると、新たに3万人以上の雇用が創出される見込みだという。
Intel CEO(最高経営責任者)のPat Gelsinger氏は、「米国とIntelにとって決定的な瞬間だ。AI(人工知能)によってデジタル革命が加速していて、全てのデジタル機器には半導体が必要だ。この支援はIntelと米国がAI時代の最前線に確実にとどまるための助けになる。Intelは米国の未来を支えるレジリエントで持続可能な半導体サプライチェーンを構築する」とコメントした。
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