「他社製との互換性追求」したArF液浸露光装置、ニコンが28年度に：主要半導体メーカーと共同開発

[永山準，EE Times Japan]

　ASMLが圧倒的なシェアを有するArF液浸露光装置市場で、ニコンが大幅なシェア向上に向けた計画を進めている――。

　ニコンは、主要半導体メーカーと共同で新たなプラットフォームを採用したArF液浸露光装置シリーズの開発を進めていて、2028年度にプロトタイプを納入する予定だ。同装置は、リソグラフィ工程における利便性を考慮し「半導体メーカーで広く利用されている他社製のArF液浸露光装置」（ASMLを指すとみられる）との互換性を追求したもので、今後も拡大が続くことが予測される同装置市場において、大幅なシェア向上を狙う。

2030年以降に後継機種開発も計画

　ニコンが2025年2月6日に開催した2024年度第3四半期決算説明会の中で公表した。同社は特長として、小型プラットフォームや新投影レンズ、新ウエハーステージ採用などを挙げている。競合装置との優位性などに関する質問には「高速で動く新開発のステージ、メンテナンス時間の短縮などの利便性改善、『他社ArF液浸露光装置』との互換性確保など、顧客ニーズを踏まえた開発を行っている」と回答している。

半導体向け新プラットフォームArF液浸露光装置シリーズについて［クリックで拡大］ 出所：ニコン

　ニコンは2028年度、共同開発をしている主要半導体メーカー（具体名は明かしていない）に、この新プラットフォームArF液浸露光装置のプロトタイプを納入する予定だ。さらに2030年以降に、後継機種の開発も計画しているという。

　同社は2028年以降、DRAMおよびロジックの3D化に伴って同装置の需要が拡大すると見ていて、大幅なシェア向上を狙う。ターゲットやシェア目標としては「いわゆる半導体メーカーのBIG3（Intel、Samsung、TSMC）を含む幅広い顧客に利用してほしい。市場シェアは、当社のArFドライ露光装置並みを目指す」としている。

参考：2022年の露光装置の種類ごとの企業別出荷台数［クリックで拡大］ 出所：連載『湯之上隆のナノフォーカス（63）：日本の前工程装置のシェア低下が止まらない 〜一筋の光明はCanonの戦略』の図表から。データ元は三菱UFJモルガンスタンレー証券