三井化学が三フッ化窒素事業から撤退、半導体プロセス材料：海外品との価格競争激化

三井化学が、半導体／液晶製造装置のクリーニングガスとして使用される三フッ化窒素事業から撤退する。海外品との価格競争の激化などが要因。2026年3月末に生産を停止し、同年内に販売も終了する。

[永山準，EE Times Japan]

　三井化学は2025年5月26日、半導体／液晶製造装置のクリーニングガスとして使用される三フッ化窒素（NF₃）事業から撤退すると発表した。2026年3月末に生産を停止し、同年内に販売も終了する。

　同社はICTソリューション事業本部半導体・光学材料事業部において、NF₃事業を展開。100％子会社である下関三井化学（山口県下関市）で、NF₃を製造してきた。NF₃は、半導体／液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤として用いられる。

　三井化学は今回の決定について、海外品との価格競争の激化や原料およびユーティリティー費用の増加、修繕費などのコスト上昇によって「事業採算は極めて厳しい状況となっている」と説明。こうした状況に対応し、あらゆる合理化／コストダウンなどに取り組んできたが、事業を継続するための収益確保が困難と判断し、撤退を決定したとしている。

　なお事業撤退による三井化学グループ業績への影響は軽微としている。