
VLSI回路シンポジウム注目論文の概要(1) (クリックで拡大) 出典:VLSIシンポジウム委員会
非接触心拍センサーから7nmプロセスまで、VLSIの今
10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか
環境発電で“欠けていたピース”埋める、ルネサスのSOTB
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次世代メモリの「理想と現実」
Intel、22nm FinEFT適用MRAMの概要を発表Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
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