日本政府、Micron広島工場に最大465億円助成：1βノードのDRAM生産に向け

[永山準，EE Times Japan]

　Micron Technology（以下、Micron）は2022年9月30日、最先端1β（ベータ）ノードのDRAMの生産に向けた広島工場（広島県東広島市）の増強について、日本政府から最大約465億円の助成金交付を受ける予定だと発表した。Micronは、「本支援を活用し、データセンターや5G（第5世代移動通信）、AI（人工知能）技術に利用される次世代の革新的なソリューションを支える先進的な1β DRAMの製造能力を強化し、その開発を加速させる」としている。

他社に先行し1β世代DRAMの製品化へ

　同工場の増強計画が、先端半導体に対する事業者の投資を促進し、日本国内における先端半導体の安定的な生産の確保に資することを目的とした政府の「特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律」に基づく特定半導体生産施設整備等計画に認定された。

Micron Technologyの広島工場［クリックで拡大］ 出所：Micron Technology

　経産省が公開した特定半導体生産施設整備等計画の概要では、計画の目標を、「Micronは、米国および日本の開発拠点による同時並行の開発により、他社に先行して1β世代DRAMの製品化および世界最大のセル密度を実現する」「チップサイズ縮小化が進むことにより、広島工場における先端メモリ半導体（DRAM）の生産量が増加し、国内主要産業への安定供給にも貢献する」「日本政府の支援により設備投資を行うことで、新たにデータセンターやAI等の最先端技術に必要とされる1β世代の先端メモリ半導体（DRAM）の量産を実現する」としている。

　また、特定半導体生産施設整備および生産の内容としては、主要製品を1β世代DRAM、生産能力を4万枚（12インチ換算）/月と記載。投資着手は2022年7月、設備設置は2023年第3四半期（2023年3〜5月）〜2024年第3四半期（2024年3〜5月）。初回出荷は2024年第2四半期（2023年12月〜2024年2月）となっている。なお、同生産施設整備に必要な資金額は約1394億円としている。

　同社は2022年8月、EE Times Japanの取材に対し、「1βノードをはじめ、DRAMの生産では、広島工場が大きな役割を果たす。広島工場をはじめMicronの日本法人にはメモリ開発に30年以上携わってきたエンジニアが数多くいる。メモリ開発では、経験が極めて重要になるので、こうした人材がいるというのも当社の強みだ」などと述べていた。