米国、日本/オランダと新対中半導体規制で合意:ASMLの液浸リソグラフィ装置など規制(2/2 ページ)
EUVリソグラフィ装置は、10nm以下のリソグラフィに欠かせない。それ故、ASMLは最先端のEUVリソグラフィ装置において100%のシェアを持つ。
ASMLが発表した決算報告によると、2022年度の売上高は230億米ドル、純利益は60億5000万米ドルだった。同年のリソグラフィ装置の販売数は、新品が317台、中古が28台だったという。2023年度の売上高は前年比25%増を見込んでいる。
2023年度についてASMLは、力強い成長を見込んでいると語る。同社プレジデント兼CEO(最高責任者)のPeter Wennink氏は、「2023年度第1四半期の売上高は61億〜65億ユーロ、粗利益率は49〜50%と予想している」と述べた。台湾、欧州、米国からの需要は引き続き拡大するため、中国への装置輸出に関する新たな規制が、同社の収益を圧迫することはないとみられる。
半導体製造装置は、AI(人工知能)や量子コンピューティングでリードしようとする中国の野望にとって欠かせないものだ。
中国の大企業が海外で最先端チップを調達し、新しいシステムを構築することは可能だろうが、中国本土で最先端半導体を設計/製造できないことは、その野望から一歩後退することを意味する。
中国政府は規制についてまだコメントを発表していないが、欧米企業に対する貿易規制を対抗措置して講じる可能性がある。
【翻訳:青山麻由子、編集:EE Times Japan】
- 日本の前工程装置のシェアはなぜ低下? 〜欧米韓より劣る要素とは
既出の記事で、日本全体の前工程装置のシェアが2013年頃から急低下していることを指摘した。本稿ではその現象をより詳細に分析し、シェアが低下している根本的な原因を探る。
- 半導体業界における中国との付き合い方を「いま」考える重要性
中国と日本はどのように付き合うべきなのか。特に日系企業は今、何を考えるべきなのか。中国との付き合い方、考え方について、整理してみたい。
- ASML、「半導体不足は今後2年間続く」と警鐘鳴らす
半導体製造に非常に重要となるEUV(極端紫外線)リソグラフィ装置の唯一のメーカーであるオランダのASMLは、半導体不足は少なくとも今後2年間続くと予想している。この警鐘は、ASMLが同社にとって不可欠なレンズの供給を、ドイツの光学機器メーカーCarl Zeiss(以下、Zeiss)などのサプライヤーに依存していることに起因するといわれている。Zeissもまた、サプライチェーンの問題による影響を受けている。
- ASMLのベルリン工場火災、EUV装置用の部品製造エリアに一部影響
ASMLは2022年1月7日(オランダ時間)、同社ベルリン工場で同2日夜に発生した火災に関する予備調査の結果を発表した。同社は、EUV(極端紫外線)露光装置用のウエハークランプの製造エリアが一部、火災の影響を受けたなどとしている。
- ASMLの新型EUV装置、ムーアの法則を今後10年延長可能に
ASMLが、新しいEUV(極端紫外線)リソグラフィ装置の開発計画を発表した。EUVリソグラフィツールは今や、世界最先端の半導体市場において非常に重要な存在となっている。その分野で唯一のサプライヤーであるASMLの経営幹部によると、今回の新型装置の開発により、ムーアの法則はこの先少なくとも10年間は延長される見込みだという。
- EUV出荷は100台を突破、コロナ下でも増収増益のASML
オランダASMLは2021年1月21日(現地時間)、2020年第4四半期および通期の業績を発表した。2020年第4四半期の売上高は43億ユーロ(約5400億円)で純利益は14億ユーロ(約1756億円)。2020年通期の売上高は、140億ユーロ(約1兆7560億円)で純利益は36億ユーロ(約4516億円)で、2019年に比べ増収増益となった。
Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.