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重量はクジラ級！　超巨大な高NA EUV装置の設置をIntelが公開：EUVリソグラフィの仕組みも（2/2 ページ）

» 2024年04月19日 22時00分公開

[永山準，EE Times Japan]

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高NA EUV装置設置の様子や仕組みを公開

　今回の発表に合わせてIntelが公開した動画では、EXE:5000について、搬入の様子のほか、2階建てバスほどのサイズであり工場内の3フロアを占めていること、重さはシロナガスクジラと同程度といった内容を紹介していた。

EXE:5000搬入の様子［クリックで拡大］出所：Intelの動画からキャプチャー

こちらも動画内で公開された組み立てや搬送とみられる風景（ソースはASMLと記載されている）［クリックで拡大］出所：Intelの動画からキャプチャー

　動画ではさらに、鋼鉄を切断できるほど強力なレーザーを光速で発射し毛髪の3分の1ほどの直径のすず液滴に当て、太陽の表面温度の約40倍にあたる22万℃近い高温のプラズマを発生。そのEUV光を集光し、反射鏡によって形状を整え、レチクル、投影光学系を介して回路パターンを転写していく――といった形で、EUVリソグラフィの仕組みについても解説していた。

鋼鉄を切断できるほど強力なレーザーを光速で発射し、毛髪の3分の1ほどの直径のすず液滴に当てる

鋼鉄を切断できるほど強力なレーザーを光速で1秒間に5万回発射し、毛髪の3分の1ほどの直径のすず液滴に当てる［クリックで拡大］出所：Intelの動画からキャプチャー

すず液滴がレーザーによって太陽の表面温度の約40倍にあたる22万℃近い高温のプラズマとなり、EUV光を放出する［クリックで拡大］出所：Intel

EUV光を集光し、反射鏡によって形状を整え、レチクル、投影光学系を介して回路パターンを転写していく［クリックで拡大］出所：Intel

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