1台3億8000万ドル、重量は150トン――明かされる高NA EUV露光装置のスケール：モノづくり総合版メルマガ 編集後記

写真や数値で示されるその規模に圧倒されました。

[永山準，EE Times Japan]

　この記事は、2024年2月15日に発行した「モノづくり総合版 メールマガジン」に掲載されたコラムの転載です。

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　2nm以下ノードの微細プロセス実現に向けて期待されている高NA（開口数）EUV（極端紫外線）露光装置のプロトタイプ「TWINSCAN EXE:5000」の初号機が、昨年末、ついにASMLからIntelへ出荷されました。Intelは同装置を業界に先駆けて導入することなどによって、微細化競争での主導権を取り戻すことを計画。2024年第1四半期にも試作を開始し、同年後半の量産開始を予定する「Intel 18A」の開発ラインで高NA EUV露光装置を導入したうえで、それより後のプロセスでの量産導入を目指しています。

　初号機の出荷や到着については、ASMLとIntelがX（旧Twitter）上でその都度写真付きで公開。両社にとって非常に重要な一歩と捉えていることが伝わってきました。また、ASMLおよび光学系の開発を担うCarl Zeiss SMT（以下、Zeiss）は2024年1月下旬、相次いで高NA EUV露光装置に関するリリースやブログ記事などを公開。高NA EUV露光装置の仕組みや課題などは各所で説明されていると思いますが、特に写真や数値で語られるその規模感に、筆者は圧倒されました。