セルの高さが5トラック(5T)のスタンダードセルにおける、「スーパービア(supervia)」と第2層金属配線(M2)のレイアウト。スーパービアがブロックするM2のトラック数を変更して図示している。左(a)は1トラック、中央(b)は3トラック、右(c)は5トラックの場合。出典:imec(IEDM 2020の発表論文「Supervia Process Integration and Reliability Compared to Stacked Vias Using Barrierless Ruthenium」(論文番号20.5)) (クリックで拡大)
スーパービアがブロックするM2のトラック数と、M0(Mint)からM5の配線混雑度の関係。ブロックするトラック数が3トラックを超えると、M3とM4、M5の配線混雑度が急激に増大する。なお混雑度は、ブロックするM2のトラック数が最も少ない(1トラックの)場合を基準とした相対値。出典:imec(IEDM 2020の発表論文「Supervia Process Integration and Reliability Compared to Stacked Vias Using Barrierless Ruthenium」(論文番号20.5)) (クリックで拡大)
ブロックするM2のトラック数と、配線混雑度(左の縦軸)およびDRC違反数(右の縦軸)の関係。4トラックまではDRC違反は100前後にとどまる。5トラックになるとDRC違反は急激に増加し、1500を超える。13層の多層配線構造を想定したときの推定値。出典:imec(IEDM 2020の発表論文「Supervia Process Integration and Reliability Compared to Stacked Vias Using Barrierless Ruthenium」(論文番号20.5)) (クリックで拡大)
高層化の継続で、製造コストを爆下げする3D NANDフラッシュ
今回からは、半導体メモリのアナリストであるMark Webb氏の「Flash Memory Technologies and Costs Through 2025(フラッシュメモリの技術とコストを2025年まで展望する)」と題する講演の概要をご紹介する。