Intelの創業5年目（前編） 収入が前年の2.5倍に、初めての営業黒字を計上：福田昭のデバイス通信（173） Intelの「始まり」を振り返る（6）（2/2 ページ）

[福田昭，EE Times Japan]

DRAM「1103」の販売が絶好調

　あらためて確認しておくと、当時のIntelは半導体メモリの大手ベンダーである。主力製品はMOSダイナミックRAM（DRAM）やMOSスタチックRAM（SRAM）、バイポーラRAMなどだ。

　1972年は特に、DRAM「1103」の販売が絶好調だった。Intelは年次報告書の本文で、「単品では、世界で販売金額の最も大きな半導体製品になった」と高らかにうたいあげた。当時の主力ユーザーはメインフレーム・メーカー（メインフレーマー）である。世界（米国、欧州、日本）のメインフレーマー18社の中で、少なくとも14社がIntelの「1103」を採用したという。メインフレームの主記憶（メインメモリ）で磁気コアメモリからDRAMへの置き換えが、急速に進んでいることがうかがえる。

MOS生産ラインを3インチ対応に大口径化

　DRAMを始めとするMOSメモリ製品の販売拡大が今後も見込まれることから、IntelはMOS製品の主力工場であるマウンテンビュー工場の生産能力を大幅に拡張することにした。切り札はウエハーの大口径化である。これまで同工場では、直径50mmのウエハー（2インチウエハー）で半導体チップを製造していた。1972年には生産ラインを、直径75mmのウエハー（3インチウエハー）を扱えるラインに切り替え始めた。生産ラインの切り替えは1973年に完了する予定である。2インチから3インチへの切り替えによって、シリコンダイ（同じ面積のダイ）のスループット（単位時間当たりの生産数量）は、2倍強に拡大する。

直径50mmのウエハー（2インチウエハー）（上）と直径75mmのウエハー（3インチウエハー）（下）の比較。筆者が2017年6月に米国カリフォルニア州サンタクララの「インテルミュージアム」で撮影したもの（クリックで拡大）

　バイポーラメモリの販売も好調である。このため、本社所在地であるサンタクララの生産工場を全てバイポーラ向けに転換してバイポーラ製品の生産能力を増強することを決めた。すなわちマウンテンビューがMOS製造ライン、サンタクララがバイポーラ製造ラインという役割分担が確立した。

初めての海外工場をマレーシアに建設

　さらに新しい工場を2カ所に建設中だ。1つは米国カリフォルニア州のリバモア工場、もう1つはマレーシアのペナン工場である。ペナン工場はパッケージの組み立て工程を担う。Intelにとってペナン工場は、初めての海外工場である。これらの工場は、次年度（1973年）に本格的な創業に入る。

　生産能力の積極的な拡大を支えるため、1973年は約1000万米ドルの設備投資を計画する。1972年の設備投資額が210万米ドルだったので、4.8倍に増額することになる。そして1973年の設備投資は、新たな資金調達をせずに賄うとした。資金繰りがかなり良くなってきたことがうかがえる。

1973年への展望。Intelの年次報告書（アニュアルレポート）を基に作成（クリックで拡大）

（後編に続く）

福田昭のデバイス通信【Intelの「始まり」を振り返る】記事一覧

創業1年目	研究開発主体で売り上げは「ゼロ」
創業2年目	初めての製品売り上げを計上するも赤字は拡大
創業3年目	売り上げが前年の11倍に急増して赤字が縮小
創業4年目	（前編）半導体メモリのトップベンダーに成長
	（後編）最終損益が黒字に転換
創業5年目	（前編）収入が前年の2.5倍に、初めての営業黒字を計上■
	（後編）腕時計メーカーになったIntel
創業6年目	クリーンルームに防塵衣がまだなかった頃
⇒	「福田昭のデバイス通信」連載バックナンバー一覧