ソニーのDRAM積層CMOSイメージセンサーに高い関心：Weekly Top 10

EE Times Japanで2017年2月4〜10日に、多くのアクセスを集めた記事をランキング形式で紹介します。さまざまなトピックのニュース記事、解説記事が登場!!

[村尾麻悠子，EE Times Japan]

「EE Times Japan Weekly Top10」バックナンバー

異色の新連載

　今回のランキングの注目は9位、「研究開発コミュニティーが置かれた危うい状況」です。これは、「研究開発における不正行為」に焦点を当てた連載で、EE Times Japanの中では少し毛色の違うものとなっています。9位にランクインしているのは第1回で、現在は第3回まで公開されています。第2回と3回「研究開発における不正行為（研究不正）とは何か（前編）」「同後編」も、ぜひお読みください。

　今回は、米国で「ISSCC 2017」が開催されたこともあり、そこで発表された技術を取り上げた記事も幾つかランクインしています。1位は、ソニーが発表したもの。DRAMを積層した3層構造の積層型CMOSイメージセンサーで、スマートフォンでもスーパースローモーション動画が撮影可能になるとしています。CMOSイメージセンサーに力を入れているソニーだけに、この記事には大きな関心が寄せられました。センサーの記事については「磁気センサーの“異端児”がウェアラブルを変える」「消費電力0.01mWの水素センサー、ReRAMがヒントに」「指で曲げるだけで電流が2倍になる有機半導体」なども、オススメです。

EE Times Weekly Top 10

» 2017年2月4〜10日

1. CMOSイメージセンサーにDRAMを積層
2. 中国のメモリ戦略は苦難の道をたどるのか
3. Qualcomm/NXPの合併に立ちはだかる米中政府の壁（前編）
4. 貼るウェアラブル実現へ、熱処理いらぬ封止技術
5. ムーアの法則、実質的には28nmが最後か
6. ファーウェイ製スマホ分解で見えたアップル／サムスンを超えた“中国のチップ開発力”
7. ルネサス 売上高成長へ「底は打った」
8. TDKとQualcommが合弁会社の設立を完了
9. 研究開発コミュニティーが置かれた危うい状況
10. EVモーター制御の専用回路を開発、CPU負荷軽減