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プロセス技術

「ムーアの法則」を追う微細加工技術などプロセス技術に関する情報をお届け。

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ニュース
LSI,プロセス技術
バリア層も不要に:

ラムリサーチは、配線工程において、従来のタングステンに代わり、モリブデンを使用する原子層堆積(ALD)装置を発表した。次世代のロジックやメモリの製造に向け、より低抵抗の金属で配線を形成できるようになる。併せて、新たなプラズマ制御機構を用いたエッチング装置も発表した。

(2025年05月16日)
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ニュース
プロセス技術,部品/材料
東北大学と住友商事:
(2025年05月15日)
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プロセス技術
エッチング装置の開発を加速:
(2025年04月28日)
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プロセス技術
歩留まり向上「予定上回るペース」:
(2025年04月24日)
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ニュース
プロセス技術
予測を上回る:
(2025年04月23日)
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ニュース
プロセス技術
26年2月着工、28年4月竣工:
(2025年04月17日)
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ニュース
LSI,プロセス技術
AI半導体の発熱対策に新提案:
(2025年04月16日)
ニュース
プロセス技術
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製造装置のデモ評価機能など強化:
(2025年04月03日)
ニュース
プロセス技術
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利用環境に最適な金属材料を選択:
(2025年04月02日)
ニュース
組み込みAI応用,AI,プロセス技術
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最適化時間を1000分の1に短縮:
(2025年04月01日)
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プロセス技術
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精度±0.8μmで熱圧着実装が可能:
(2025年04月01日)
特集
LSI,プロセス技術
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台湾依存に警鐘:
(2025年03月27日)
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プロセス技術
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SN Techが開設、2025年度に稼働:
(2025年03月26日)
ニュース
プロセス技術,計測/検査装置
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機械学習を活用し過検出を大幅抑制:
(2025年02月27日)
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プロセス技術
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主要半導体メーカーと共同開発:
(2025年02月13日)
ニュース
プロセス技術
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2027年夏に完成の予定:
(2025年02月10日)
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プロセス技術
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新たな結晶パターニング法を提案:
(2025年02月03日)
ニュース
プロセス技術,部品/材料
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光硬化性樹脂を新たに開発:
(2025年01月31日)
ニュース
プロセス技術
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原子レベルの滑らかな接合面を実現:
(2025年01月29日)
ニュース
プロセス技術
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高NA EUVスキャナーへの適用も可能か:
(2025年01月23日)
ニュース
プロセス技術,部品/材料
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JSR製のカラーレジストを採用:
(2025年01月22日)
ニュース
プロセス技術,部品/材料
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高NA向け評価用フォトマスクも提供:
(2024年12月13日)
ニュース
プロセス技術
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2025年に稼働予定の「US-JOINT」:
(2024年12月11日)
ニュース
SEMICON2024,事前情報,プロセス技術
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アキレスが独自手法で実現:
(2024年12月10日)
ニュース
SEMICON2024,事前情報,LSI,プロセス技術
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量産なしでも受託可能:
(2024年12月05日)
ニュース
LSI,プロセス技術
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板厚100μmのガラスに直接加工:
(2024年12月05日)
ニュース
SEMICON2024,事前情報,LSI,プロセス技術
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「SEMICON Japan 2024」事前情報:
(2024年12月04日)
ニュース
プロセス技術,部品/材料
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低温、短い焼結時間で高い接合強度:
(2024年12月02日)
インタビュー
SEMICON2024,事前情報,業界動向,プロセス技術
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SEMIジャパン 浜島雅彦氏:
(2024年11月29日)
ニュース
プロセス技術,部品/材料
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ピクセルを個別に成膜して封止:
(2024年11月27日)

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