東京理科大学の研究グループは、東京大学や住友電気工業と共同で、汎用性の高いスパッタ法を用い、高品質の窒化スカンジウムアルミニウム(ScAlN)薄膜を作製することに成功した。
All material on this site Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved. This site contains articles under license from AspenCore LLC.
ITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。
メディア一覧 | 公式SNS | 広告案内 | お問い合わせ | プライバシーポリシー | RSS | 運営会社 | 採用情報 | 推奨環境